集寧純水設(shè)備廠家
發(fā)布時(shí)間：2022-03-03 00:11:40
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膠粒的水化作用因?yàn)槟z體帶有電荷，水分子具有極，所以水分子定向地吸引到膠體顆粒的周圍，形成一層水化層。水化層具有定向排列結(jié)構(gòu)，當(dāng)膠粒相互接近時(shí)，水化層被擠壓變形，因其有力圖恢復(fù)原定向排列結(jié)構(gòu)能力，水化層表現(xiàn)出具有彈性，成為膠粒相互接近時(shí)的阻力，防止膠粒聚集在一起而沉降。水化層是伴隨膠體帶電而產(chǎn)生的，當(dāng)膠體芍電位消除或減弱時(shí)，水化層作用也會(huì)消除或減弱。水中膠體顆拉失穩(wěn)的幾種方式，不同的化學(xué)混凝劑會(huì)引起膠體顆粒以不同形式失穩(wěn)。膠體失穩(wěn)是膠體聚集在一起而沉降的前提。在水處理中，常見的方式或方法有以下幾種。 (})雙電層壓縮作用當(dāng)向水中加人電解質(zhì)時(shí)，電解質(zhì)產(chǎn)生的大量導(dǎo)電離子(或稱反離子)對(duì)膠體的擴(kuò)散層有明顯壓縮作
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電位的測(cè)定爹電位是雙電層內(nèi)的剪切平面的電位，它與帶電顆粒的遷移數(shù)(稱淌度)有關(guān)。套電位取決于顆粒表面電位(能斯特電位)和雙電層的厚度夸電位可用Zeta電位計(jì)來測(cè)定，它的值的大小取決于帶電顆粒間靜電斥力。在天然水中顆?？潆娢怀Ｔ谝?0一一40mV之間，依靠中和作用失穩(wěn)的膠體物質(zhì)的套電位接近于零，此時(shí)混凝劑量可確定為佳值。但是，當(dāng)混凝過程是在有擋板的澄清器內(nèi)形成時(shí)，并不能單獨(dú)依靠爹電位確定佳的混凝劑量。應(yīng)注意的是，夸電位表明顆粒帶電的程度，但不一定表明是否有充足的礬花形成。由于影響混凝的因素很多，在整個(gè)混凝模擬過程中，應(yīng)由出水質(zhì)量如濁度值來確定混凝優(yōu)條件。(3) SCI〕儀混凝效果的另一個(gè)監(jiān)測(cè)方法，是利用流動(dòng)電流監(jiān)測(cè)儀(SCD)。該裝置是使用機(jī)械堵塞器，產(chǎn)生較高的水流速，引起環(huán)繞在相反電性的懸浮顆粒(通常負(fù)電)周圍的帶電離
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當(dāng)原水硅酸鹽含量較高時(shí)，可投加石灰、氧化鎂(或白云粉)進(jìn)行處理。硅的溶解度與水的溫度和pH值有關(guān)。當(dāng)硅存在于RO給水中的濃度大于20mg/L時(shí)，必須作結(jié)垢傾向的評(píng)估pH< 9時(shí)，大多數(shù)硅以硅酸形式存在，即為氏Si04或?qū)懽鱯i (oH)4;在更低pH值條件下，硅酸會(huì)聚集形成膠體，稱硅膠;在州>9時(shí)，一定數(shù)量的硅以硅酸根Si誘一存在;在更高pH值條件下，Si咪一能與鈣、鎂、鋁形成鹽沉淀下來。由于硅垢的清洗比較困難，故防止其在膜上結(jié)垢是十分必要的。當(dāng)反滲透系統(tǒng)與存在于原水中的懸浮物、膠體等雜質(zhì)接觸時(shí)，它就有可能被污染。這些雜質(zhì)在反滲透系統(tǒng)內(nèi)濃縮時(shí)，就有可能聚集成大顆粒沉積在膜表面上。一旦發(fā)生此類污染，將影響膜的性能。如果及時(shí)采取措施，大多數(shù)的污染物可通過清洗除去。但是，清洗畢竟耗費(fèi)人力物力，通過適當(dāng)預(yù)處理，把反滲透污染降至低的程度，減少清洗頻率是十分必要的。常用方法有:混凝與沉淀處理、過濾、水的氯化處理等
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要獲得合理的出水質(zhì)量和合適的出水?dāng)?shù)量，除選擇合適的過濾器外，需確定恰當(dāng)?shù)倪\(yùn)行參數(shù)，如濾速、運(yùn)行周期、終水頭損失。對(duì)運(yùn)行周期，一般要求低不低于6--8h,以獲得合理凈產(chǎn)水量，高不高于3b---48h,以避免過濾器內(nèi)雜質(zhì)在水流不暢通處發(fā)生厭氧分解，影響水質(zhì)。對(duì)水頭損失，重力式過濾器通常低于29式過濾器設(shè)計(jì)水頭損失大于29.4kPao濾速應(yīng)保持平穩(wěn)，4kPa，壓力因?yàn)闉V速突然改變比采用較高濾速運(yùn)行更影響出水質(zhì)量。 過濾器運(yùn)行監(jiān)控項(xiàng)目主要有:①水頭損失;②出水質(zhì)量;③自動(dòng)反洗時(shí)的起始狀態(tài)與運(yùn)行周期;④濾速(流量);⑤反洗強(qiáng)度、反洗持續(xù)時(shí)間等。反洗現(xiàn)分述如下:首先應(yīng)了解反洗條件，反洗是過濾運(yùn)行中的一個(gè)重要步驟，通過反洗清除濾料中截留的雜質(zhì)，確保下一周期過濾的順利進(jìn)行。
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機(jī)械攪拌澄清器是一種泥渣循環(huán)式澄清器，見圖X10。它利用泥渣從沉降區(qū)返回到絮凝區(qū)的再循環(huán)，達(dá)到較高的絮凝度，使水中的雜質(zhì)和泥渣相互凝聚吸附并結(jié)成更大的顆粒，提高澄清效果。一般流程為進(jìn)水通過配水裝置進(jìn)人第一反應(yīng)室，在安裝同一根軸上的機(jī)械攪拌裝置和提升葉輪作用下，與添加的凝聚劑和助凝劑以及泥渣相混合，并一起被提升到第二混合室繼續(xù)混凝反應(yīng)以結(jié)成更大的顆粒，再折回向下經(jīng)過導(dǎo)流室進(jìn)人分離區(qū)。大而重的顆粒便很快沉降下來，而一些較輕的絮凝物再隨水流上升。隨著澄清器橫截面積逐漸擴(kuò)大，上升流速漸漸降低，較輕的絮凝體絨粒與清水因密度差而分離，到達(dá)頂部的清水經(jīng)集水槽收集流出。沉下的泥渣除部分通過泥渣濃縮室排出以保持泥渣平衡外，大部分泥渣則通過攪拌、提升裝置在池內(nèi)不斷與原水再度混凝循環(huán)。