赤峰純水設(shè)備生產(chǎn)廠家
發(fā)布時間:2022-02-07 00:11:34
赤峰純水設(shè)備生產(chǎn)廠家
雖然這兩種方法的去除形式不同,但它們都采用化學反應(yīng)法進行離子交換,使水垢產(chǎn)生新物質(zhì),方便人們清洗。然這兩種方法的去除形式不同,但它們都采用化學反應(yīng)法進行離子交換,使水垢產(chǎn)生新物質(zhì),方便人們清洗。本實用新型的水處理方法能夠很好地對其進行全面清理,但是不同結(jié)構(gòu)的鍋爐,對其使用的儀器有不同的要求,而且有很多設(shè)備無法完全清除。電滲析法是一種典型的物化水處理方法,它是利用電化學原理將水中的鹽分去除,電滲析水處理用于高度除鹽、純水的制備,由于設(shè)備投資高,目前在鍋爐水處理方面的應(yīng)用并不多,特別是在采暖爐水處理中應(yīng)用較少,特別是在鍋爐水處理中應(yīng)用較少,特別是在采暖爐水處理中應(yīng)用較少,而鍋爐水除鹽應(yīng)用則較為嚴格。鍋爐內(nèi)形成的水垢會導致工業(yè)生產(chǎn)中的能源消耗,據(jù)調(diào)查,這一現(xiàn)象導致的能耗占我國工業(yè)生產(chǎn)總能耗的20%左右,鍋爐水處理系統(tǒng)可降低能耗及不必要的經(jīng)濟成本。

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從其結(jié)構(gòu)型式可分為兩種類型,即懸浮泥渣式和泥渣再循環(huán)式。脈沖式澄清器是一種懸浮泥渣式澄清器,見圖3-9。它在脈沖發(fā)生器的作用下,加藥后的原水在進水室內(nèi)上升。當達到高水位時,液位開關(guān)自動打開空氣閥,進水室內(nèi)的水通過澄清器底部的配水裝置進人澄清器內(nèi)。上升的水流將泥渣層托起。當進水室內(nèi)的水位降到低水位時,液位開關(guān)自動關(guān)閉空氣閥。在脈沖發(fā)生器的作用下,加藥后的原水又沿進水室上升,而底部的配水裝置不再進水,泥渣層在重力作用下被壓縮。當水位到達高水位時,空氣閥再度打開,水又進人澄清器內(nèi),將泥渣層又托起到原來的高度。這樣,使澄清器內(nèi)活性泥渣層有規(guī)律地上下運動,形成周期性的膨脹和收縮,自動調(diào)整懸浮層濃度的均勻分布,有助于礬化顆粒的接觸、碰撞,從而提高凈水效果。脈沖式澄清器的優(yōu)點是澄清效率高;構(gòu)造簡單且可隨場地的布置而制作成方形、圓形、矩形;維修保養(yǎng)簡便;適應(yīng)性強。

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空氣擦洗加全浮動狀態(tài)下逆流反洗:該方法被認為是目前反洗效果好的。在反洗水排出時,使用空氣擦洗,存在著濾料被沖出過濾器的可能性,因此,該反洗系統(tǒng)需要合理的設(shè)計和運行。對于較細的濾料,空氣擦洗可在用水進行浮動反洗之前使用,其過程通常為2 --- 5 min??諝獠料赐V购螅诜聪此懦鲋?,反洗水進人過濾器,并慢慢從濾層中把空氣排出,然后,在全浮動狀態(tài)下進行水的反洗,直至排出的反洗水清潔為止。對較粗的濾料,在反洗水排出過濾器期間,空氣擦洗可以與水反洗在浮動狀態(tài)下同時進行,該方法會收到更好的效果。在同時反洗約10min后,停止空氣供給,反洗水則繼續(xù)進人,從濾層中把空氣排出,并沖走濾料中的臟物。

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一般情況下,對不同粒徑的濾料,水和空氣流量(速)應(yīng)有所不同,以防止濾料排出體外。從石英砂表面至反洗水溢流口之間垂直距離一般不少于0 . smo對于先進行空氣擦洗,后進行水反洗的情況,在美國,對雙濾料過濾器(d。為1. Omm磺化煤+d。為o.s~石英砂),空氣流速ss---91m/h,根據(jù)水溫,選用全浮動狀態(tài)下水流量為12一16L}(時·S)或流速37 --- 49m/h o對于空氣擦洗與水反洗同時進行的情況,在美國,對于d}為1.0~石英砂,空氣流速為37 --- 73m/h,水流速為lsm/h;對d。為2.0~石英砂,空氣流速為110 }--1sOrn/h,水流速為1s一20m/h(3)直流過濾又稱直流混凝過濾,是指對原水(地表水)懸浮物較低的水,不加設(shè)沉淀設(shè)備把混凝劑(與助凝劑)直接加到過濾器的進水管道中,讓水中雜質(zhì)形成可過濾的細小礬花,以便在過濾器中除去雜質(zhì)的過程,見圖3-170由于直流過濾沒有另設(shè)沉淀設(shè)備,因此投資成本低。

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當原水硅酸鹽含量較高時,可投加石灰、氧化鎂(或白云粉)進行處理。硅的溶解度與水的溫度和pH值有關(guān)。當硅存在于RO給水中的濃度大于20mg/L時,必須作結(jié)垢傾向的評估pH< 9時,大多數(shù)硅以硅酸形式存在,即為氏Si04或?qū)懽鱯i (oH)4;在更低pH值條件下,硅酸會聚集形成膠體,稱硅膠;在州>9時,一定數(shù)量的硅以硅酸根Si誘一存在;在更高pH值條件下,Si咪一能與鈣、鎂、鋁形成鹽沉淀下來。由于硅垢的清洗比較困難,故防止其在膜上結(jié)垢是十分必要的。當反滲透系統(tǒng)與存在于原水中的懸浮物、膠體等雜質(zhì)接觸時,它就有可能被污染。這些雜質(zhì)在反滲透系統(tǒng)內(nèi)濃縮時,就有可能聚集成大顆粒沉積在膜表面上。一旦發(fā)生此類污染,將影響膜的性能。如果及時采取措施,大多數(shù)的污染物可通過清洗除去。但是,清洗畢竟耗費人力物力,通過適當預處理,把反滲透污染降至低的程度,減少清洗頻率是十分必要的。常用方法有:混凝與沉淀處理、過濾、水的氯化處理等